Retour au texte principal

Équipement de retrait de ruban de protection pour wafer TAIKO® Série Système NEL®

Cet équipement entièrement automatisé retire le ruban de protection (pour le procédé de polissage) de la surface du wafer TAIKO.

HR9000

HR9000semicon_backgrinding_img_icon_ce

Équipement automatisé de retrait de ruban pour wafer TAIKO de 200 mm

Déroulement du process

Caractéristiques

  • Wafer TAIKO disponible
  • Transfert sans contact par méthode Bernoulli
  • Transfert sans contamination (en utilisant deux bras robotisés)
  • Performances de pelage stables avec barre de pelage, déclencheur de pelage, maintien de bordure
    (déclencheur de pelage et maintien de bordure en option)
  • Pelage partiel à faible effort lors de l'application
  • Utilisation facile de la programmation sur écran tactile
  • Conforme à CE mark / SEMI S2/S8
  • Possibilité d'ajouter SECS/GEM

Spécifications standard

  • Taille de wafer utilisable : 8 à 6 po
  • Épaisseur de wafer utilisable : wafer TAIKO : 50 µm ou plus
    Wafer normal : 150 µm ou plus
  • Débit : wafer TAIKO : 30 wafers/h
    Wafer normal : 50 wafers/h
  • * Les valeurs ci-dessus dépendront du type de wafer/ ruban/autres conditions, et dans certains cas, la fonction en option est incluse.
    Dans le cas où les conditions sont adaptées, des Wafers hors spécifications, pourraient être utilisés. Veuillez nous contacter.

Contact Us

TEL +33-1-48 17 87 50

Business Hours (WET) 8:00h-17:00h Except for Sat, Sun, and Holidays

Search by other product categories

Contact Us

TEL +33-1-48 17 87 50
Business Hours (WET) 8:00h-17:00h
Except for Sat, Sun, and Holidays