Équipement de retrait de ruban de protection pour wafer TAIKO® Série Système NEL®
Cet équipement entièrement automatisé retire le ruban de protection (pour le procédé de polissage) de la surface du wafer TAIKO.
HR9000
HR9000
Équipement automatisé de retrait de ruban pour wafer TAIKO de 200 mm
Déroulement du process
Caractéristiques
Wafer TAIKO disponible
Transfert sans contact par méthode Bernoulli
Transfert sans contamination (en utilisant deux bras robotisés)
Performances de pelage stables avec barre de pelage, déclencheur de pelage, maintien de bordure (déclencheur de pelage et maintien de bordure en option)
Pelage partiel à faible effort lors de l'application
Utilisation facile de la programmation sur écran tactile
Conforme à CE mark / SEMI S2/S8
Possibilité d'ajouter SECS/GEM
Spécifications standard
Taille de wafer utilisable : 8 à 6 po
Épaisseur de wafer utilisable : wafer TAIKO : 50 µm ou plus Wafer normal : 150 µm ou plus
* Les valeurs ci-dessus dépendront du type de wafer/ ruban/autres conditions, et dans certains cas, la fonction en option est incluse. Dans le cas où les conditions sont adaptées, des Wafers hors spécifications, pourraient être utilisés. Veuillez nous contacter.