Material de limpeza para a mesa de estampagem Cleaning Wafer™

O wafer de limpeza visa remover as partículas pequenas nos braços de robô ou nas mesas de estampagem de equipamentos manufaturados semicondutores.

O wafer de limpeza, tendo uma camada especial de limpeza, pode remover pequenas partículas no equipamento de fabricação do semicondutor. O tempo ocioso das ferramentas pode ser drasticamente reduzido ao utilizar o wafer de limpeza, comparado com o método comum de limpeza manual. O wafer de limpeza pode também ser usado para manutenção preventiva de modo que a melhora do rendimento possa ser esperada.

Características
Estrutura/Especificações
Aplicações/Referência

Características

O wafer de limpeza tem uma camada especial de limpeza que fornece excelente desempenho de limpeza e desempenho de transferência estável.
Usa uma camada especial de remoção de partículas que tem um módulo elástico alto e não contamina a mesa de estampagem.
A redução do tempo ocioso pode ser esperada para a limpeza de partículas em uma câmara de vácuo.
A operação de limpeza usando um wafer de limpeza é bem simples e fácil.
Uma ampla gama de tamanhos de partículas pode ser capturada.

Estrutura/Especificações

Item	CW1000
Estrutura
Espessura total	720 ~ 900 (μm)
Dureza da superfície	500 Mpa (22 °C)
Temperatura de operação	~ 20 ~ 50 °C ※1
Tamanho	6 polegadas: Plano oriental 8/12 polegadas: Entalhe em V
Tipo de partícula	Si, Metal (Orgânico)
Tamanho da partícula	0,2 μm ou mais (valor de medição)

※1 Consulte-nos caso a temperatura de operação for maior do que 50 °C .

Aplicações/Referência

	Equipamentos	Efeito
	Gravura seca	Estabilizar o gás hélio de resfriamento
	Gravura seca	Reduzir o tempo de manutenção
	Sondagem	Reduzir a frequência de manutenção regular
	Litografia	Reduzir erro de vácuo
		Reduzir o erro de foco
		Reduzir o tempo de manutenção
	Implementação de íons	Reduzir a frequência de manutenção regular
	Tipos de dispositivos	Meta
	Memória/Lógica	Gravura a seco, litografia, passo a passo
	Dispositivo de alimentação	Passo a passo, sonda
	Serra/Filtro de serra	Gravura a seco, espalhamento
	MEMS	Gravura a seco

Melhoria do tempo de inatividade

Ao usar o CW1000, o tempo de inatividade pode ser reduzido em comparação com a limpeza normal da câmara que se abre para a atmosfera.
※Pode estender o período de tempo antes da limpeza em atmosfera aberta.