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Lösungsmittelbeständige Sägefolie (in der Entwicklung)

Lösungsmittelbeständige Sägefolie für spezielle Verarbeitungen, wie TSV-Wafer.

Der TAIKO®-Prozess und die temporäre Trägertechnologie wurden für die Bearbeitung von sehr dünnen Wafern bei TSV(Trough-Silicon Via)-Wafern und IGBT entwickelt. In diesen Bereichen ist eine Lösungsmittelreinigung erforderlich. Diese dünnen Wafer können jedoch nicht ohne Stützbänder bearbeitet werden. Die lösungsmittelbeständige Sägefolie kann sehr dünne Wafer während des Lösungsmittelreinigungsprozess stabilisieren und anschließend als Sägefolie dienen.

Funktionen

  • Ausgezeichnete Lösungsmittelbeständigkeit mit hoher Sägeleistung.
  • Gute Aufnahmefähigkeit nach Lösungsmittelreinigungsprozess.

Struktur

Anwendungen

  • Wafer-Reinigungsprozess auf Lösungsmittelbasis auf der Sägefolie nach Entfernen des temporären Trägers für TSV-Wafer und extrem dünne Wafer.

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